国家知识产权局信息显示，光驰科技（上海）有限公司申请一项名为“一种靶材缓存装置及真空处理设备”的专利，公开号CN121951461A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明涉及真空处理技术领域，公开了一种靶材缓存装置及真空处理设备。该靶材缓存装置包括缓存腔室、隔离组件和运输机构；缓存腔室设置有大气隔离门；至少部分运输机构设于缓存腔室内；运输机构的驱动端可拆卸连接于靶材单元的一端，用于驱动靶材单元的另一端穿过隔离组件进入或脱离真空腔室。本发明中在隔离组件分隔缓存腔室和真空腔室后，污染物不会进入真空腔室内，避免了真空腔室内部环境出现劣化，与此同时，使用缓存腔室暂存靶材单元并配合运输机构驱动靶材单元移动，能够防止靶材单元固定占用真空腔室的空间，避免了靶材单元遮挡其他真空处理源的工作路径，进而避免对基材的真空处理效果造成影响。
天眼查资料显示，光驰科技（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本80000万日元。通过天眼查大数据分析，光驰科技（上海）有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目41次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息377条，此外企业还拥有行政许可49个。
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